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標題: NVIDIA揭密：28nm 對開普勒能效的貢獻 [打印本頁]

作者: barry304 時間: 2012-4-27 02:06 PM 標題: NVIDIA揭密：28nm 對開普勒能效的貢獻

本帖最後由 barry304 於 2012-4-27 02:07 PM 編輯

雖然有爆料稱NVIDIA對台積電已經恨之入骨，也有跡象表明NVIDIA正在尋求與GlobalFoundries、三星的代工合作，但對台積電的依賴已經如此之深，兩家還得好好合作下去。做為工程團隊的領導，Joe Greco已經在開普勒的製造上與台積電合作了三年，今天他就分享了28nm工藝對開普勒能效的一些影響。

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開普勒核心照片

相信大家也看出來了，與以往不同，開普勒這次特別強調自己擁有更高的能效(Power Efficency)，而不再單獨宣傳性能或者曲面細分之類的技術。Joe Greco也提到了一點，說開普勒的使命就是在每個能量單位(瓦特)上發揮最佳性能。

開普勒使用的台積電28nm工藝是其中的HP高性能版本，並融入了其第一代高K金屬柵極(HKMG)、第二代矽鍺應變(SiGe)技術。NVIDIA宣稱，此工藝相比於40nm可將運行功耗降低大約15％、漏電率降低大約50％，最終帶動整體能效提升大約35％，而在不同遊戲中，GeForce GTX 680相比於GeForce GTX 580的能效提升幅度少則60％、多則可達100％。

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顯微鏡下的台積電28nm HP

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28nm與開普勒能效提升

因為開普勒同時引入了新工藝和新架構(NVIDIA是這麼說的)，開發模式也不同於以往。從前，NVIDIA負責設計、台積電負責製造，兩家各行其是，但這一次，開普勒流片之前三年雙方就開始了緊密合作，共同完成了生產認證平台(PQV)，使得台積電工藝工程師和NVIDIA設計工程師可以在流片之前就對工藝進行優化。通過反複試驗原型，工藝和設計兩方面都進行了優化，最終得到了能效更高的開普勒，而不是簡單地將芯片工藝換成28nm。

Joe Greco最後還說，開普勒只是萬里長征中的一步，NVIDIA未來還會繼續與台積電合作開發，事實上NVIDIA最近剛剛從台積電那裡拿到了20nm工藝增強版PQV的第一個版本，會在下下代GPU上獲得更高能效。

這就是說，2013年的“麥克斯韋”(Maxwell)仍會使用28nm，再往後的新一代就會進步到20nm。(文)

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NVIDIA GPU路線圖

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